北京有意夸大神级工程！真正问题是“这漏洞”

报告提及，直到最近，人们普遍认为世界上只有一家公司有能力制造EUV，也就是荷兰半导体制造巨头ASML。2019年，川普第一个任期极具远见与荷兰政府合作，阻止中国取得ASML的EUV设备。这项策略取得显著成效，迫使中国耗费数年巨资进行逆向工程和本土研发。

然而，在中国努力研发扩大EUV规模的同时，它却在悄悄利用出口管制中的漏洞，不受限制地取得上一代设备。中国芯片制造商已经找到方法，可以改进不受此类限制的旧设备-DUVi设备，从而制造出接近尖端技术的芯片。数据显示，DUVi系统领先制造商ASML，在2024年将其70%的DUVi设备出售给中国实体。

近年来，中国芯片制造商学会了将一种名为多重曝光的制程应用于DUVi设备，以生产更小、更强大的芯片。虽然这种制程会大幅降低良率，使芯片生产速度变慢、成本更高，而且仍然无法与美国及其盟国芯片制造商的尖端芯片相媲美，但大规模应用这些技术或许能够使中国制造出足够多的芯片，从而加速其AI的发展。

路透指出，中国“曼哈顿计划”秘密打造EUV设备。（路透资料照）

报告示警，这种设备流动从3个关键方面威胁著美国的利益。首先，它显著削弱了现有出口管制措施的效力：如果北京能够自主生产先进芯片，华盛顿将失去确保美国在AI领域保持对中优势的最有力手段。其次，它使中国能够缩小运算能力差距，而运算能力差距仍然是中国大规模进行先进AI训练和部署的主要瓶颈。第三，如果中国能够扩大先进AI芯片的生产规模，并为世界提供更便宜的替代方案，这将削弱美国芯片制造商和AI公司在全球市场的地位。

报告还说，现行政策不仅允许中国取得芯片制造设备，而且还延长了这些设备的使用寿命。 ASML的DUVi需要专门的维护，这只有该公司才能提供。尽管美国施压荷兰政府阻止ASML在中国进行设备维护，但ASML仍积极在中国维护这些设备，这可能会将设备的使用寿命延长至30年。

据一位半导体制造专家称，ASML的设备大约每6个月就需要进行一次维护。如果切断中国与ASML的定期维护，其DUVi设备的性能将在短短1年内显著下降，从而加剧民主国家在运算能力方面的差距。

一些批评者认为，更严格的限制只会加速中国自主研发先进曝光设备的脚步。但是限制取得外国设备仍可延缓中国自主研发的进程，在中国高端工程师有限之下，拒绝维护现有设备将迫使北京在优先使用旧设备和研发新设备之间做出艰难的选择。

美国国会已开始意识到采取行动的迫切性。众议院议院“美国与中国共产党战略竞争”特别委员会，近期呼吁川普政府在全国范围内禁止向中国出售DUVi工具，并加强与盟友的协调，以强化出口管制。

美国对于这些设备的管制始于与盟友和伙伴进行外交协调，以便更好协调和执行出口管制。美国应扩大与荷兰和日本的芯片联盟，将德国和韩国也纳入其中，因为德国和韩国分别控制光系统和高频宽记忆体（HBM）的关键环节。

美国出口管制部门也应利用此一联盟，阻止盟国半导体制造企业为中国现有的DUVi设备提供维修服务。

全面限制DUVi技术输中，会带来实际的代价。这将对ASML、东京威力科创和Nikon等盟国企业造成商业损失，并不可避免招致中国的报复。此外，还需要持续的外交斡旋，以维持与荷兰、日本及其他盟国和伙伴的合作关系。

尽管管制成本的分担并不对称：盟国芯片制造企业面临商业损失，而美国芯片制造商和AI公司则受益于中国竞争的限制，但美国在AI领域的领先地位符合整个联盟的利益，维持美国在技术上对中国的主导地位是一项战略要务，这要求盟国企业接受短期成本，与中国AI优势带来的巨大后果相比，这些成本微不足道。

报告总结，川普政府应敦促日本和荷兰建立一致性立场，川普总统曾在其他共同安全问题上成功向盟友施压，他应该再次这样做，以确保世界民主国家在AI领域保持领先地位。为了维护产业和国家安全利益，川普必须确保美国在这些管制措施上加倍努力，而不是退缩。